产品货号：
MQ0067
中文名称：
EGY48酵母感受态细胞
英文名称：
EGY48 Chemically Competent Cell
产品规格：
10×100μl|50×100μl
发货周期：
1～3天
产品价格：
询价
EGY48菌株是LexA系统酵母双杂实验用菌株，MATa型，可直接转化质粒进行蛋白互作验证或筛库试验；Transformation marker为：his3，trp1，ura3，报告基因为：LEU2；报告基因UAS(上游激活序列)来源于LexA op(x6)，只有当Bait和Prey互作时才能启动LEU2表达。
EGY48-LexA酵母双杂系统系统需要三种质粒配套使用：pLexA、pB42AD、p8op-LacZ。
质粒pLexA的筛选标志为HIS3，用于表达DNA-BD(来自原核的202个氨基酸残基组成的LexA蛋白)与目标蛋白(Bait)的融合蛋白；
质粒pB42AD的筛选标志为TRP1，用于表达AD(来自疱疹病毒的88个氨基酸残基组成的B42AD蛋白)与目标蛋白(Prey)的融合蛋白；
报告质粒p8op-LacZ的筛选标志为URA3，报告基因为LacZ，报告基因UAS来源于LexA op(x8)，只有当Bait和Prey互作时才能启动LacZ表达。Y2HGold感受态细胞经特殊工艺制作，-80℃可保存三个月，经PGBKT7质粒检测转化效率>104cfu/μg DNA。
保存条件：-80℃
基因型：
MATα，ura3，his3，trp1，LexAop(x6)-LEU2
操作说明：
1.取100 μl冰上融化的EGY48感受态细胞，依次加入预冷的目的质粒2-5μg，Carrier DNA(95-100度5min,快速冰浴，重复一次)10 μl，PEG/LiAc 500μl并吸打几次混匀，30度水浴30分钟(15 min时翻转6-8次混匀)。
2.将管放42度水浴15min(7.5 min时翻转6-8次混匀)。
3.5000 rpm离心40s弃上清，ddH2O 400μl重悬，离心30s弃上清。
4.ddH2O 50μl重悬，涂板,29℃培养48-96h。
注意事项：
1.感受态细胞最好在冰上融化。
2.转化高浓度的质粒可相应减少最终用于涂板的菌量。
3.同时转化2-3种质粒时可增加质粒的用量。
4.EGY48酵母菌株对高温敏感，最适生长温度为27-30℃；高于31℃，生长速度和转化效率呈指数下降。
5.酵母在缺陷培养基中生长速度比YPDA培养基慢，培养基中缺陷成分越多，生长越慢，以转化涂板为例：涂YPDA平板29℃，48h培养可见直径1mm克隆；涂SD单缺平板29℃，48-60h培养可见直径1mm克隆，涂SD双缺平板29℃，60-80h培养可见直径1mm克隆，涂SD三缺或四缺平板平板29℃，80-90h培养可见直径1mm克隆。
相关搜索：EGY48酵母感受态细胞，EGY48 Chemically Competent Cell
EGY48-LexA酵母双杂系统系统需要三种质粒配套使用：pLexA、pB42AD、p8op-LacZ。
质粒pLexA的筛选标志为HIS3，用于表达DNA-BD(来自原核的202个氨基酸残基组成的LexA蛋白)与目标蛋白(Bait)的融合蛋白；
质粒pB42AD的筛选标志为TRP1，用于表达AD(来自疱疹病毒的88个氨基酸残基组成的B42AD蛋白)与目标蛋白(Prey)的融合蛋白；
报告质粒p8op-LacZ的筛选标志为URA3，报告基因为LacZ，报告基因UAS来源于LexA op(x8)，只有当Bait和Prey互作时才能启动LacZ表达。Y2HGold感受态细胞经特殊工艺制作，-80℃可保存三个月，经PGBKT7质粒检测转化效率>104cfu/μg DNA。
保存条件：-80℃
基因型：
MATα，ura3，his3，trp1，LexAop(x6)-LEU2
操作说明：
1.取100 μl冰上融化的EGY48感受态细胞，依次加入预冷的目的质粒2-5μg，Carrier DNA(95-100度5min,快速冰浴，重复一次)10 μl，PEG/LiAc 500μl并吸打几次混匀，30度水浴30分钟(15 min时翻转6-8次混匀)。
2.将管放42度水浴15min(7.5 min时翻转6-8次混匀)。
3.5000 rpm离心40s弃上清，ddH2O 400μl重悬，离心30s弃上清。
4.ddH2O 50μl重悬，涂板,29℃培养48-96h。
注意事项：
1.感受态细胞最好在冰上融化。
2.转化高浓度的质粒可相应减少最终用于涂板的菌量。
3.同时转化2-3种质粒时可增加质粒的用量。
4.EGY48酵母菌株对高温敏感，最适生长温度为27-30℃；高于31℃，生长速度和转化效率呈指数下降。
5.酵母在缺陷培养基中生长速度比YPDA培养基慢，培养基中缺陷成分越多，生长越慢，以转化涂板为例：涂YPDA平板29℃，48h培养可见直径1mm克隆；涂SD单缺平板29℃，48-60h培养可见直径1mm克隆，涂SD双缺平板29℃，60-80h培养可见直径1mm克隆，涂SD三缺或四缺平板平板29℃，80-90h培养可见直径1mm克隆。
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